品牌 | OTSUKA/日本大冢 | 價(jià)格區(qū)間 | 100萬(wàn)-200萬(wàn) |
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測(cè)量模式 | 直流 | 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子,綜合 | | |
半導(dǎo)體膜厚測(cè)試儀-OPTM
R&D ! QC ! 植入設(shè)備! 都可簡(jiǎn)單實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量!
測(cè)量目標(biāo)膜的絕對(duì)反射率,實(shí)現(xiàn)高精度膜厚和光學(xué)常數(shù)測(cè)試! (分光干渉法)
半導(dǎo)體膜厚測(cè)試儀特 長(zhǎng) Features
·膜厚測(cè)量中必要的功能集中于頭部
·通過(guò)顯微分光高精度測(cè)量絕對(duì)反射率(多層膜厚、光學(xué)常數(shù))
·1點(diǎn)只需不到1秒的高速tact
·實(shí)現(xiàn)了顯微下廣測(cè)量波長(zhǎng)范圍的光學(xué)系(紫外~近紅外)
·通過(guò)區(qū)域傳感器控制的安全構(gòu)造
·搭載可私人定制測(cè)量順序的強(qiáng)大功能
·即便是沒(méi)有經(jīng)驗(yàn)的人也可輕松解析光學(xué)常數(shù)
·各種私人定制對(duì)應(yīng)(固定平臺(tái),有嵌入式測(cè)試頭式樣)
測(cè)量項(xiàng)目 Measurement item
·絕對(duì)反射率測(cè)量
·膜厚解析
·光學(xué)常數(shù)解析(n:折射率、k:消光系數(shù))
構(gòu)成圖
式 樣Specifications
※ 上述式樣是帶有自動(dòng)XY平臺(tái)。
※ release 時(shí)期 是OP-A1在2016年6月末、OP-A2、OP-A3預(yù)定2016年9月。
* 膜厚范圍是SiO2換算。