近場光學(xué)顯微鏡代替?zhèn)鹘y(tǒng)光纖探針來增強(qiáng)樣品的納米尺度區(qū)域的散射，散射信號可以在遠(yuǎn)場被檢測到，而這些散射信號攜帶了樣品在金屬探針針尖下納米級區(qū)域的復(fù)雜光學(xué)性質(zhì)。

　　具體而言，這些散射光的信息包括光的振幅和相位，通過適當(dāng)?shù)哪Ｐ?，這些測量可以估算出針尖下樣品納米尺度區(qū)域材料的光學(xué)常數(shù)，在某些情況下，光學(xué)相位與波長還提供了一個(gè)與同種材料常規(guī)吸收光譜近似的光譜信息。

　　近場光學(xué)顯微鏡建立在基于具有納米光學(xué)表征工具原子力顯微鏡基礎(chǔ)之上，高度集成，全面自動化，使用靈活，為研究生產(chǎn)力和易用性設(shè)定了新的標(biāo)準(zhǔn)，適用于硬質(zhì)材料，特別是具有高反射率、高介電常數(shù)或強(qiáng)光學(xué)共振的材料，可以完成對所有物質(zhì)納米尺度的化學(xué)性質(zhì)分析及探索。

　　一、產(chǎn)品特點(diǎn)：

　　1、10nm空間分辨率近場成像和光譜；

　　2、快速成像和采譜技術(shù)，10倍于傳統(tǒng)的空間光譜成像；

　　3、背景壓制技術(shù)和光學(xué)信號收集技術(shù)，確保在10nm空間分辨率下仍然保持高的信噪比；

　　4、預(yù)先校準(zhǔn)光路，操作簡便；

　　5、模塊化設(shè)計(jì)，可拓展性強(qiáng)；

　　近場光學(xué)是研究距離物體表面一個(gè)波長以內(nèi)的光學(xué)現(xiàn)象的新型交叉學(xué)科，基于非輻射場的探測與成像原理，近場光學(xué)顯微鏡突破常規(guī)光學(xué)顯微鏡所受到的衍射極限，在超高光學(xué)分辨率下進(jìn)行納米尺度光學(xué)成像與納米尺度光譜研究。

　　二、技術(shù)參數(shù)：

　　1 操作模式：透射模式，反射模式，收集模式，照明模式；

　　2 原子力顯微鏡操作模式：敲擊模式，接觸模式選配，所有探針或樣品掃描的操作模式；

　　3 微分干涉對比：反射和透射；

　　4 折射率成像：反射和透射；

　　5 在線遠(yuǎn)場共聚焦和拉曼及熒光光譜成像：反射和透射，針對選擇性拉曼散射超薄膜的探針增強(qiáng)拉曼散射；

　　6 熱傳導(dǎo)及擴(kuò)展電阻成像：接觸模式，敲擊模式，音叉反饋模式無反饋激光引入干擾信號；熱探針可作為納米加熱器使用，納米熱分析、納米相轉(zhuǎn)變等應(yīng)用。